浙江森田新材料有限公司
浙江森田新材料有限公司成立于2003年，注册资金2700万美元，公司坐落在浙江省金华市武义县新材料产业园区，是一家由日本森田化学工业株式会社和浙江三美化工股份有限公司共同投资成立的中日合资企业。主要生产微电子蚀刻及清洗级材料，应用于半导体及微电子技术加工和太阳能光伏等行业，是集成电路（IC）制造的关键性基础材料之一。
公司引进日本先进的超高纯清洗与蚀刻用电子材料生产设备和技术，形成年产5万吨电子级氢氟酸、5.2万吨BOE、1.5万吨高纯氨水、3万吨高纯双氧水、3万吨混合蚀刻液的生产能力。
日本森田化学工业株式会社是一家日本的百年企业，致力于半导体氟化学品的研发与制造，是日本首家成功开发氢氟酸生产技术的化学公司，享有“日本氟化物历史的创造者”之盛名，拥有世界顶尖技术。
浙江森田新材料有限公司经过十几年的经营与发展，已集聚了一大批素质较好的经营管理者、技术人才和产业工人，积累了比较丰富的企业运营、安全环保等方面的经验，建立健全了比较完善的各项企业管理制度，先后通过了ISO9001质量管理体系、ISO14001环境管理体系、OHSAS18001职业健康安全管理体系等认证。公司依托日本森田化学工业株式会社半导体氟化学品的研发与制造的领先技术，以及浙江三美化工股份有限公司成熟的化工企业生产经营背景，致力于发展成为一家在全球微电子蚀刻材料行业中，技术领先的高新技术企业。